針對汎銓科技25日提出高達新台幣2億元的專利侵權訴訟，指控其侵害「光損偵測裝置」發明專利，光焱科技於26日發布新聞稿強硬反擊。光焱科技強調，汎銓所持為舊世代金相顯微鏡技術專利，而自身則專注於次世代高光譜成像技術，兩者在矽光子檢測領域存在顯著技術差異，認定侵權指控站不住腳，並譴責此為不正當競爭手段。
汎銓專利訴訟數據揭示：2億元求償與侵權指控
根據汎銓科技於25日發布的重大訊息指出，該公司已對光焱科技提起專利侵權訴訟，聲稱光焱侵害其第 I870008B 號「光損偵測裝置」發明專利，並要求高達新台幣2億元的損害賠償。此舉迅速引發業界的高度關注，不僅涉及高額賠償金額，更觸及了半導體檢測領域的智慧財產權爭議。
光焱科技發言人廖清霖於26日表示：「截至目前為止，公司並未收到任何法院相關訴訟函件。光焱科技對於同業在未經司法程序前，即試圖透過媒體發布資訊煙霧彈，實則以法律手段干擾市場正常運作、阻礙產業創新之行為深感遺憾，並對此類不正當之競爭手段予以嚴正譴責。後續將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東之合法權益。」
此項訴訟的提出，不僅可能影響兩家公司的市場競爭格局，更可能間接牽動未來矽光子檢測技術的發展方向。光焱科技強調，公司營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受影響，並將積極應對司法程序。
光焱科技數據反駁：核心技術自主研發與世代差異
光焱科技嚴正聲明，公司深耕光學與光電子晶片檢測領域已長達16年，始終高度尊重智慧財產權，所有核心產品均為團隊自主研發，並未且無須使用其他公司的技術與專利。面對此次同業的不實指控與行銷操作，光焱科技進一步闡明了雙方在檢測技術世代上的顯著落差。
- 汎銓專利技術： 採用傳統「金相顯微鏡」組成的方案進行光損量測。
- 光焱科技核心技術： 基於次世代、更先進的「高光譜成像技術感測模組」，可高度整合於客戶端系統（如探針台、電測機）上，直接進行矽光子光學檢測。其中，光損檢測僅是光焱在矽光子晶片檢測多功能模組的其中一項技術應用。
光焱科技強烈指出，拿舊時代的金相顯微鏡專利，來控告新世代的高光譜影像感測模組，在技術本質上是完全站不住腳的。這凸顯了兩種技術原理與應用場景的根本性差異，因此侵權之說法缺乏技術基礎。
專利舉發數據分析：舊技術保護與新技術發展
針對汎銓於記者會上聲稱其專利曾挺過17項舉發而維持有效，光焱科技亦提出專業見解予以反擊。經檢視公開資料，該專利舉發案之所以不成立，主因係舉發人當時提出的是更先進的檢測技術與零組件作為證據，主管機關因此認定與汎銓採用之傳統金相顯微鏡技術「無關」。
光焱科技進一步強調：「產業界皆知，『專利』保障的是特定的技術實施手段，而非將『光損檢測』一詞註冊為商標來買斷市場。不能因為汎銓針對其舊技術申請了專利，就無限上綱認定市場上所有具備『光損檢測』功能的設備皆侵害其權益。」
此一分析恰好證明了該專利所保障的僅是舊世代技術，進而明確證實光焱科技採用的高光譜成像系統與汎銓的技術截然不同，自然毫無侵權之疑慮。若依此荒謬邏輯，近期國際光學大廠蔡司（Zeiss）宣佈進軍光損檢測領域，難道也構成對汎銓的侵權？此舉凸顯對方說法在產業技術與法律邏輯上皆有失偏頗。
數據背後的啟示：智慧財產權與產業創新平衡
此次汎銓科技與光焱科技之間的專利糾紛，不僅是一場涉及2億元賠償金的法律戰，更深層次地反映了新舊技術世代交替時，在智慧財產權保障與產業創新推動之間如何取得平衡的挑戰。專利制度的本意在於鼓勵創新，而非阻礙進步。當舊有專利試圖涵蓋新興、具顛覆性的技術時，便可能引發此類爭議。
此事件提醒業界，在快速發展的半導體與矽光子檢測領域，企業應更聚焦於自身技術的獨特性與前瞻性，並確保專利佈局能有效區隔不同世代的技術範疇。最終，產業的健康發展應仰賴於良性的技術競爭與合作，而非透過法律手段干擾市場，這對於整體科技進步至關重要。
