汎銓科技重磅出擊：控光焱科技專利侵權，求償新台幣2億捍衛核心技術

汎銓科技（6830）於2026年3月25日正式向智慧財產及商業法院提起訴訟，指控光焱科技（7728）涉嫌侵害其「光損偵測裝置」發明專利。此訴訟不僅要求光焱科技立即停止所有侵權行為，更請求高達新台幣2億元的損害賠償，旨在強力捍衛汎銓在半導體高階製程領域的智慧財產權與創新成果。

專利侵權爭議始末：汎銓捍衛研發成果

這場專利爭議的核心，在於汎銓科技所擁有的中華民國第 I870008B號「光損偵測裝置」發明專利。汎銓科技董事長柳紀綸於2026年3月25日明確指出，公司發現光焱科技的設備及技術方案，已涉及侵犯此項關鍵專利。為確保長期投入的研發資源不被不法利用，並維護公司全體利害關係人的權益，汎銓科技決定採取法律行動。

柳紀綸董事長強調，台灣在全球科技產業中享有「護國群山」美譽，而汎銓科技更是專攻半導體核心的高階先進製程材料檢測分析，以及AI暨矽光子檢測等領域，在全球半導體與AI市場中具備領導地位，其業務範圍涵蓋美國、台灣、日本等重要市場。他表示：

「為避免光焱持續侵害本公司智慧財產權，甚至可能因為違法行為遭到漠視的同時，進一步引發技術及重要機密外洩等更重大的違法事件疑慮，汎銓考量台灣整體科技產業之價值與重要性，以及維護公司全體利害關係人權益之立場下，基於長期投入研發所產生的競爭優勢，訴請法院判相關被告公司及有關人等立即停止侵害專利權的所有行為，並請求損害賠償新台幣2億元。」

汎銓「光損偵測裝置」技術與佈局

汎銓科技自主研發的「光損偵測裝置」技術，是其在半導體檢測分析領域的關鍵利器。這項創新技術不僅已成功取得台灣及日本的發明專利，近期更進一步正式取得美國發明專利，展現其在全球範圍內的技術領先性與保護力。目前，汎銓已成功組裝三台矽光子量測分析設備，持續強化其在先進製程檢測的服務能力。

這項專利技術的取得，是汎銓科技在半導體產業持續深耕與創新的重要里程碑。其所涵蓋的關鍵應用包括：

• 高階先進製程材料檢測分析
• AI與矽光子檢測技術整合
• 全球半導體市場的技術領導地位

透過這些技術，汎銓科技得以提供更精準、高效的檢測服務，支援全球半導體產業的發展，尤其在日益重要的矽光子技術領域。

產業影響與未來展望

這起專利侵權訴訟，不僅是兩家企業間的法律攻防，更凸顯了台灣高科技產業在智慧財產權保護上的決心。在半導體技術競爭日益激烈的全球環境下，核心技術的專利權成為企業維持競爭優勢、避免技術外流的關鍵。汎銓科技此舉，無疑是對業界發出明確訊號，強調尊重創新與保護研發成果的重要性。

未來，這場訴訟的進展將受到業界高度關注，其判決結果可能對台灣半導體產業的專利保護策略、企業間的技術合作模式，乃至於整體產業的創新氛圍產生深遠影響。這不僅關乎汎銓自身的權益，也將為台灣科技產業如何在全球市場中捍衛其「護國群山」的地位，提供一個重要的案例。