挪威新創公司Lace Lithography於今年3月成功募得4千萬美元的A輪資金，這筆資金由Atomico領投，並獲得微軟M12風投部門、Linse Capital、Nysnø以及西班牙技術轉型協會的參與。Lace Lithography專注於開發具備劃時代意義的氦原子束微影技術，其目標是突破現有晶片製造的極限，進而挑戰ASML在先進微影市場的獨佔地位，並為下一代人工智慧（AI）晶片提供關鍵的技術支援。
事實陳述與技術突破
Lace Lithography成立於2023年7月，由卑爾根大學物理學家博迪爾·霍爾斯特（Bodil Holst）及其前博士生Adria Salvador Palau共同創立。該公司所研發的氦原子束微影技術，其氦束寬度僅為0.1奈米，相較於ASML的極紫外光（EUV）光束窄了135倍。這項精密的技術能夠刻畫出比現有系統小10倍的晶片特徵，為延續摩爾定律（Moore’s Law）提供了新的可能性，特別是在對於下一代人工智慧硬體日益增長的需求背景下。
霍爾斯特教授的學術背景涵蓋奈米級成像、二維材料及分子束微影研究，這為Lace Lithography的技術發展奠定了堅實基礎。公司的核心目標在於挑戰ASML在先進微影工具市場近乎壟斷的地位，目前這些高端微影工具的價格已超過3.5億美元。
市場影響與未來展望
這項氦原子束技術的潛力在於能夠實現原子級的圖案化，其精密度遠超過EUV的波長限制，因此能有效滿足人工智慧晶片對於更密集電晶體的需求。在當前全球地緣政治推動半導體供應鏈多元化的背景下，Lace Lithography的技術發展更顯其戰略意義。
博迪爾·霍爾斯特表示：
「這項技術可能擴展設計的路線圖，並使目前系統無法實現的設計成為可能。」
此番言論凸顯了這項技術在重塑半導體製造業方面的巨大潛力。隨著人工智慧需求和供應鏈問題持續推動對半導體產業的投資，Lace Lithography正處於這個高風險且競爭激烈的行業中，面臨著將實驗室突破轉化為實際生產應用的挑戰。
後續觀察與部署計畫
Lace Lithography目前已成功建造了原型系統，並在今年2月的微影峰會上提出了具體計畫。該公司預計在2029年之前，將其測試工具部署於試點工廠中進行實地驗證。這一步驟對於驗證氦原子束微影技術的穩定性與量產可行性至關重要，也將是其能否成功挑戰現有市場格局的關鍵。
